TEA采用創新的光干涉原理專利技術,可無損檢測塊體和薄膜樣品透明材料的熱膨脹系數,廣泛應用于輔助各種新材料,尤其是薄膜材料的研究與開發以及質量檢驗。
熱膨脹系數分析儀獨特技術
自主知識產權產品,擁有多項技術專利。
基于光干涉原理的創新技術,通過照射到樣品上下表面產生的兩束反射光發生干涉,得到光功率隨溫度的變化曲線,通過計算得到材料的熱膨脹系數。
采用PID調節與模糊控制相結合形式控制的紅外加熱方式,大溫區連續、高速溫度跟隨、既定程序升溫及保持控制。
非接觸式無損檢測,測試精度高。
具備外接抽真空設備、循環水冷設備及載氣或制冷能力。
熱膨脹系數分析儀技術參數
型號
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TEA-300
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TEA1200
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TEA-1800
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溫度范圍
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RT~300℃
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RT~1200℃
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RT~1800℃
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程序升溫重復性偏差
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<1.0%
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程序升溫速率偏差
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<1.0%
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熱膨脹系數測量精密度偏差
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<4.5%
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熱膨脹系數測量正確度偏差
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<±15%
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最大工作功率
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4.0kw
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最大升溫速度
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50℃/s(50℃~1200℃、真空氛圍),45℃/s℃/(50℃~1200℃,N?氛圍)
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溫度一致性
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±2.0℃(1200℃,真空),±4.5℃(1200℃,N?)
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制冷要求
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水冷
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熱膨脹分辨率
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266nm
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熱膨脹系數分析儀樣品要求
尺寸:長×寬5x5~20x20mm2,厚度2.0mm(含基底)以下為宜
適用于透光材料的熱膨脹系數檢測
具備光學反射雙平面
檢測樣品的熱膨脹量≥266nm
熱膨脹系數分析儀測試原理

1.入射光 2.光束隔離器 3.投射光 4.待測樣品
5.反射光 6.反射光 7.聚光鏡 8.濾光片 9.光電傳感器
光路原理圖
激光器射出的光線經分光鏡照射到樣品上表面,產生反射光,同時投射光照射到下表面也產生一束反射光,兩束反射光在光電探測器處發生干涉,反射光功率發生周期性變化,得到光功率隨材料溫度的變化曲線,通過計算得到熱膨脹系數。